4-éthénylphénol acétate CAS 2628-16-2

Le p-acétoxystyrène peut être utilisé pour synthétiser le polyparahydroxystyrène en tant que composant principal d'une photorésistaire (photorésistaire). Les séries de photo-p-hydroxystyrène de photorésistaires chimiquement amplifiées sont actuellement les produits photorésistaires traditionnels au monde, et sont l'une des technologies clés pour traiter les circuits et les puces de fabrication de la séance photo. The photo-etching technology is developed from the production of 0.3-0.28μm line width to the deep ultraviolet light (wavelength 248nm) to produce 0.18μm line width, and the ultra-deep ultraviolet light (wavelength 193nm) can be used to trace the Largeur de ligne à 0,11 μm de microcircuit. La photorésiste 248 nm utilise généralement un dérivé de poly-p-hydroxystyrène comme résine de formation de film, du sel d'iodonium aryle ou du sel de sulfonium comme générateur photoacide, en utilisant la technologie d'amplification chimique pour libérer un générateur photoacide sous la lumière l'acide, puis l'acide catalyse la liaison croisée du polymère ( Gélation négative) ou la réaction de déprotection (gélatinisation positive), augmentant ainsi considérablement la photosensibilité.